Preparation and Characterisation of Pyrolytically-Deposited Thin Oxide Films from Metal-Organic Compounds

A simple and versatile pyrolytic method of preparing thin metal oxide films that is based on the Metal Organic Chemical Vapour Deposition (MOCVD) technique and that is operative at relatively low temperatures (420°C) has been utilised to prepare the thin metal oxide films of indium, zinc, aluminium...

Täydet tiedot

Tallennettuna:
Bibliografiset tiedot
Päätekijä: Lambi, John Ngolui
Muut tekijät: Ajayi, O.B.
Aineistotyyppi: Opinnäyte
Kieli:englanti
Julkaistu: Obafemi Awolowo University 2014
Aiheet:
Linkit:http://localhost:8080/xmlui/handle/123456789/3442
Tagit: Lisää tagi
Ei tageja, Lisää ensimmäinen tagi!