Preparation and Characterisation of Pyrolytically-Deposited Thin Oxide Films from Metal-Organic Compounds

A simple and versatile pyrolytic method of preparing thin metal oxide films that is based on the Metal Organic Chemical Vapour Deposition (MOCVD) technique and that is operative at relatively low temperatures (420°C) has been utilised to prepare the thin metal oxide films of indium, zinc, aluminium...

Mô tả đầy đủ

Đã lưu trong:
Chi tiết về thư mục
Tác giả chính: Lambi, John Ngolui
Tác giả khác: Ajayi, O.B.
Định dạng: Luận văn
Ngôn ngữ:Tiếng Anh
Được phát hành: Obafemi Awolowo University 2014
Những chủ đề:
Truy cập trực tuyến:http://localhost:8080/xmlui/handle/123456789/3442
Các nhãn: Thêm thẻ
Không có thẻ, Là người đầu tiên thẻ bản ghi này!